Enerji dağınımlı x-ışını floresans (EDXRF) ile bileşiklerdeki kimyasal kaymanın incelenmesi
Loading...
Files
Date
2005
Authors
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Ankara Üniversitesi, Fen Bilimleri Enstitüsü
Abstract
Bu çalışmada enerji dağınımlı X-ışını floresansı (EDXRF) yardımıyla Ni-Si ikili sisteminde alaşım etkisinin nikelin K-kabuğu floresans veriminde, Kp/Ka şiddet oranında ve tesir kesitinde oluşturduğu etkiler incelenmiştir. Sonuçlar, bazı Ni-Si alaşımları için mevcut elektronik yapı hesaplamalarından elde edilen sonuçlar, Ni’nin 3d-elektronik şekillenimi cinsinden tartışılmıştır.
In this work, influence of alloying effect on nickel K-shell fluorescence yield, Kp/Ka intensity ratio and cross-section are investigated in Ni-Si binary system by means of energy dispersive X-ray fluorescence (EDXRF). The results were discussed in terms of the 3d-electronic configuration of Ni obtained from electronic structure calculations for some Ni-Si alloys.
In this work, influence of alloying effect on nickel K-shell fluorescence yield, Kp/Ka intensity ratio and cross-section are investigated in Ni-Si binary system by means of energy dispersive X-ray fluorescence (EDXRF). The results were discussed in terms of the 3d-electronic configuration of Ni obtained from electronic structure calculations for some Ni-Si alloys.
Description
Keywords
Alloying effect, Alaşım etkisi, Ni-Si alloys, Ni-Si alaşımları, X-ray fluorescence yield, X-ışını floresansı verimi, Intensity ratio, Şiddet oranı, Cross-section, Tesir kesiti
Citation
Kalaycı, Y. (2005), Enerji dağınımlı x-ışını floresans (EDXRF) ile bileşiklerdeki kimyasal kaymanın incelenmesi. (Yayımlanmamış doktora tezi). Ankara : Ankara Üniversitesi, Fen Bilimleri Enstitüsü.